米国初の研究拠点設置でSCREENの開発体制が拡充

米国で始動する研究開発の新拠点

SCREENホールディングスは、米ニューヨーク州オールバニに海外初となる研究開発拠点を設立した。投資額は約120億円に達し、2026年度の稼働を予定している。拠点は、先端半導体研究で知られる研究センター内に位置し、半導体製造装置の高度化を目的とした研究活動を担う。

新拠点では、SCREENが強みとする半導体洗浄装置を中心に、次世代工程に対応した装置開発を進める。クリーンルームには最先端設備を導入し、洗浄分野にとどまらない研究を実施する。複数の技術領域を横断した研究を行うことで、製造プロセス全体を視野に入れた技術開発を進める。

研究センターには、アプライドマテリアルズやIBMなど、世界的な半導体関連企業が入居している。SCREENは同じ施設内での研究活動を通じ、装置メーカーや関連機関との協業を深める。研究環境を共有することで、技術的な知見の交換や共同研究を迅速に進める体制を整える。

滋賀県彦根市の主力工場や京都市の研究拠点と連携し、国内外を結ぶ研究ネットワークを構築する。基礎研究から製品開発までを一体的に進めることで、開発期間の短縮を図る。海外拠点で得た成果を国内の製造や設計に反映させる役割も担う。

米国での研究開発体制を強化することで、SCREENは半導体装置事業全体の競争力を高める。洗浄分野で培った技術を基盤に、先端製造プロセスへの対応力を拡充する方針だ。グローバルな研究環境を活用し、成長分野への取り組みを本格化させる。